慕尼黑上海光博會、SEMICON CHINA開展倒計時！

2025-02-26 16:34:02 優(yōu)尼康

作為亞洲激光、光學(xué)、光電行業(yè)盛會，齊聚國內(nèi)外行業(yè)知名企業(yè)，從元器件到系統(tǒng)集成方案，提供光電產(chǎn)業(yè)完整產(chǎn)品鏈展示平臺。展會將繼續(xù)秉持以科技創(chuàng)新為核心，勇于突破，不斷創(chuàng)新，努力推動光電產(chǎn)業(yè)的轉(zhuǎn)型升級，為全球光電產(chǎn)業(yè)的持續(xù)繁榮做出更大的貢獻(xiàn)。

優(yōu)尼康將參展慕尼黑上海光博會，期待與您現(xiàn)場探討關(guān)于優(yōu)尼康設(shè)備在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用，助力行業(yè)發(fā)展。

本次展會為免費參展

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會議時間：

2025年3月11日 - 13日

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展會地點：

上?！ば聡H博覽中心

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展位布局：

優(yōu)尼康展臺 N2館2729

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參展設(shè)備：


F50 膜厚測量儀
F50可以非常簡單地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜厚度分布圖。采用r-θ 極坐標(biāo)移動平臺，可以快速定位所需的測試點并且實時獲得測試厚度，大約每秒測試兩點。
相關(guān)應(yīng)用：半導(dǎo)體制造（光刻膠、氧化物/氮化物/SOI、晶圓背面研磨）；LCD 液晶顯示器（聚酰亞胺、ITO 透明導(dǎo)電膜）；光學(xué)鍍膜（硬涂層、抗反射層）；MEMS 微機(jī)電系統(tǒng)（光刻膠、硅系膜層）。


Profilm3D 白光干涉光學(xué)輪廓儀
Profilm3D 使用最先進(jìn)的垂直干涉掃描 (WLI) 與高精度的相位干涉 (PSI) 技術(shù)。以強(qiáng)大的性價比實現(xiàn)次納米級的表面形貌研究。
相關(guān)應(yīng)用：粗糙度測量;三維形貌表征;臺階高度測量


FS-8 多波長橢偏儀
Film Sense FS-8多波長橢偏儀采用壽命長 LED 光源和非移動式部件橢偏探測器，可在操作簡單的緊湊型橢偏儀中實現(xiàn)可靠地薄膜測量。
相關(guān)應(yīng)用：二氧化硅和氮化物，高介電和低介電材料，非晶和多晶材料，硅薄膜，光刻膠。高和低指數(shù)薄膜，如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 。TCO（如 ITO），非晶硅薄膜，有機(jī)薄膜（OLED 技術(shù)）等


MNi-450F 桌面式主動型隔振臺
MNi-450F 桌面式主動型隔振臺全新設(shè)計，易使用，優(yōu)秀的隔振性能。全頻段出色的抗振效果同時沒有共振。
相關(guān)應(yīng)用：SPM,AFM，臺階儀，光學(xué)輪廓儀，激光干涉儀，桌面型SEM，激光共聚焦顯微鏡，表面粗糙度儀，小型硬度計，電子天平，硬盤制造裝置，微操作機(jī)器人，等精密裝置

SEMI致力于促進(jìn)中國半導(dǎo)體﹑平板顯示﹑太陽能光伏、化合物半導(dǎo)體、智能交通、智能制造等產(chǎn)業(yè)的發(fā)展, 推動全球與國內(nèi)產(chǎn)業(yè)界的交流與合作，呼吁產(chǎn)業(yè)人才培育（英才計劃），推動研發(fā)創(chuàng)新，促進(jìn)產(chǎn)業(yè)持續(xù)發(fā)展。

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展會時間：

2025年3月26日 - 28日

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展會地點：

上海·新國際博覽中心

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展位布局：

優(yōu)尼康展位號 N1-1343

圖片關(guān)鍵詞