優(yōu)尼康邀您參與第十七屆慕尼黑上海光博會(huì)

2023-07-06 09:50:07 admin

第十七屆慕尼黑上海光博會(huì)將于2023年7月11-13日在國(guó)家會(huì)展中心（上海）6.1H、7.1H、8.1H館隆重舉辦，本屆展會(huì)展示面積將達(dá)到80,000平方米，預(yù)計(jì)吸引全球1100余家光電行業(yè)知名企業(yè)入駐，超過(guò)80,000名海內(nèi)外觀眾蒞臨現(xiàn)場(chǎng)參觀洽談。

優(yōu)尼康也將攜帶多款設(shè)備參加此次盛會(huì)，現(xiàn)場(chǎng)還會(huì)有特別活動(dòng)贈(zèng)送精美小禮品，歡迎您蒞臨參觀。

“

展會(huì)時(shí)間：

2023年7月11日 - 7月13日

“

展會(huì)地點(diǎn)：

國(guó)家會(huì)展中心（上海）

“

展位：7.1E244

官網(wǎng)免費(fèi)快速報(bào)名入口 點(diǎn)擊進(jìn)入

展臺(tái)現(xiàn)場(chǎng)會(huì)有神秘活動(dòng)

等待您的參與

參展設(shè)備


F50 膜厚測(cè)量?jī)x
F50可以非常簡(jiǎn)單地獲得直徑450毫米的樣品薄膜厚度分布圖。采用r-θ 極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái)，可以快速定位所需的測(cè)試點(diǎn)并且實(shí)時(shí)獲得測(cè)試厚度，大約每秒測(cè)試兩點(diǎn)。
相關(guān)應(yīng)用：半導(dǎo)體制造（光刻膠、氧化物/氮化物/SOI、晶圓背面研磨）；LCD 液晶顯示器（聚酰亞胺、ITO 透明導(dǎo)電膜）；光學(xué)鍍膜（硬涂層、抗反射層）；MEMS 微機(jī)電系統(tǒng)（光刻膠、硅系膜層）。


P7 臺(tái)階儀
P-7可以對(duì)臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行2D和3D測(cè)量，其掃描可達(dá)150mm而無(wú)需圖像拼接。
相關(guān)應(yīng)用：薄膜/厚膜臺(tái)階；蝕刻深度量測(cè)；光阻/光刻膠臺(tái)階；柔性薄膜；表面粗糙度/平整度表征；表面曲率和輪廓分析；薄膜的2D stress量測(cè)；表面結(jié)構(gòu)分析；表面的3D輪廓成像；缺陷表征和缺陷分析。


R50四探針電阻率測(cè)量?jī)x
Filmetrics R50 系列提供接觸式四點(diǎn)探針 (4PP) 和非接觸式渦流 (EC）測(cè)量。 1 點(diǎn)/秒的速度映射導(dǎo)電膜的電阻率/電導(dǎo)率。電動(dòng) X-Y 載物臺(tái)使用標(biāo)準(zhǔn)晶片吸盤(pán)定制樣品架，可測(cè)量 300mm 的樣品,或200mm 的面積。
相關(guān)應(yīng)用：硅片摻雜;金屬層厚度測(cè)試;晶圓片電阻率測(cè)試


Profilm3D 白光干涉光學(xué)輪廓儀
Profilm3D 使用先進(jìn)的垂直干涉掃描 (WLI) 與高精度的相位干涉 (PSI) 技術(shù)。以強(qiáng)大的性價(jià)比實(shí)現(xiàn)次納米級(jí)的表面形貌研究。
相關(guān)應(yīng)用：粗糙度測(cè)量;三維形貌表征;臺(tái)階高度測(cè)量


FS-1 多波長(zhǎng)橢偏儀
Film Sense FS-1多波長(zhǎng)橢偏儀采用壽命長(zhǎng) LED 光源和非移動(dòng)式部件橢偏探測(cè)器，可在操作簡(jiǎn)單的緊湊型橢偏儀中實(shí)現(xiàn)可靠地薄膜測(cè)量。
相關(guān)應(yīng)用：二氧化硅和氮化物，高介電和低介電材料，非晶和多晶材料，硅薄膜，光刻膠。高和低指數(shù)薄膜，如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 。TCO（如 ITO），非晶硅薄膜，有機(jī)薄膜（OLED 技術(shù)）等